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電子廠潔凈室的除塵率要求

發(fā)布日期: 2025-04-25
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  電子廠潔凈室的除塵率要求主要取決于其潔凈度等級(如百級、千級、萬級、十萬級等),而不同等級對空氣中顆粒物的容許濃度有嚴格規(guī)定。以下是關(guān)鍵標準及要求:
 
  1. 潔凈度等級與顆粒物限制
 
  - 百級潔凈室:每立方米空氣中≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500個,≥5μm的粒子數(shù)≤293個。
 
  - 千級潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤35,200個/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個/m³。
 
  - 萬級潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤352,000個/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個/m³。
 
  - 十萬級潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500,000個/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤20,000個/m³。
 
  2. 除塵率要求
 
  - 高效過濾器(HEPA/ULPA):
 
  潔凈室通常要求末端過濾器對≥0.3μm顆粒的過濾效率≥99.97%(HEPA)或≥99.999%(ULPA),具體選擇取決于潔凈度等級。
 
  - 整體系統(tǒng)效率:
 
  通過初效、中效、高效三級過濾組合,綜合除塵率需確保達到對應潔凈度等級的顆粒物限值。例如,十萬級潔凈室的送風系統(tǒng)需將初始空氣中的顆粒物濃度降低至標準值的1/10,000以下。
 
  3. 其他影響因素
 
  - 氣流組織:單向流(層流)潔凈室的除塵效率高于非單向流(亂流),需通過合理的氣流設(shè)計減少死角。
 
  - 正壓控制:潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)的壓差需≥10Pa,防止外部污染物進入。
 
  - 靜電控制:電子廠潔凈室需維持濕度40%-60%,以減少靜電吸附顆粒。
 
  4. 實際應用建議
 
  - 對于高精密電子制造(如半導體),通常要求千級或更高潔凈度,除塵率需接近100%。
 
  - 動態(tài)環(huán)境下(如人員操作時),需通過增加換氣次數(shù)(如十萬級換氣15-20次/小時)維持除塵效果。
 
  總結(jié)
 
  電子廠潔凈室的除塵率并非固定百分比,而是通過過濾系統(tǒng)、氣流設(shè)計和環(huán)境控制共同實現(xiàn)對應潔凈度等級的顆粒物限值。具體需根據(jù)生產(chǎn)工藝要求(如集成電路制程需百級,普通封裝可接受萬級)選擇匹配的凈化方案。
 
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